金融界2025年3月21日消息，国家知识产权局信息显示，百及纳米科技（上海）有限公司申请一项名为“多探针光刻设备及光刻方法”的专利，公开号CN 119644672 A，申请日期为2023年9月。

　　专利摘要显示，本发明提供了一种多探针光刻设备及光刻方法，多探针光刻设备包括多个可相对于彼此独立移动的曝光单元组，每一个曝光单元组包括一个或多个曝光单元。光刻方法可包括：将待光刻的图形划分为多个子图形，每一个子图形对应于单个曝光单元的写场；确定多个子图形的曝光顺序，其中曝光顺序指示每一个子图形的执行曝光的曝光单元以及每一个曝光单元的移动顺序，其中待光刻的图形至少由两个曝光单元组中的曝光单元同时光刻，并且多个曝光单元组中的任意两个相邻的曝光单元组之间的距离大于单个曝光单元的写场的尺寸；根据曝光顺序初始化多个曝光单元组中的每一个曝光单元组的相对位置；以及根据曝光顺序执行待光刻的图像的曝光。

　　天眼查资料显示，百及纳米科技（上海）有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本506.6667万人民币，实缴资本506.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，百及纳米科技（上海）有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目1次，财产线条，此外企业还拥有行政许可2个。